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申请/专利权人：英飞凌科技股份有限公司
摘要：提供了一种超声设备及其形成方法、超声组件及其形成方法。该超声设备包括至少一个微机械超声换能器MUT和电耦合到至少一个MUT的处理电路系统。至少一个MUT和处理电路系统被封装在嵌入式晶片级球栅阵列eWLB封装中。用于将至少一个MUT声耦合到外部应用表面的声耦合介质被形成在至少一个MUT上。
主权项：1.一种超声设备100，200，300，包括：至少一个微机械超声换能器MUT111，……，118；以及处理电路系统120，电耦合到所述至少一个MUT111，……，118，其中所述至少一个MUT111，……，118和所述处理电路系统120被封装在嵌入式晶片级球栅阵列eWLB封装130中，并且其中用于将所述至少一个MUT111，……，118声耦合到外部应用表面的声耦合介质140被形成在所述至少一个MUT111，……，118上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 英飞凌科技股份有限公司 超声设备及其形成方法、超声组件及其形成方法
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