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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生SHG光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。
主权项：1.一种检测基板上缺陷的方法，所述方法包括：沿相对于基板的表面倾斜的方向将入射光束照射到基板的表面以形成第一反射光束和第二反射光束；以及检测第二反射光束之中的二次谐波产生光束，其中，二次谐波产生光束由基板上的缺陷产生，其中，检测二次谐波产生光束的步骤包括：去除第二反射光束之中的具有与二次谐波产生光束的偏振方向不同的偏振方向的反射光束，其中，具有与二次谐波产生光束的偏振方向不同的偏振方向的反射光束表示不是由缺陷产生的光束，其中，第一反射光束是沿相对于基板的表面倾斜的方向行进且从基板的表面反射的光束，其中，第二反射光束是沿垂直于基板的表面的方向行进的光束，并且第二反射光束包括从基板上的缺陷反射的光束。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 检测基板上的缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备
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