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申请/专利权人：牧东光电科技有限公司

摘要：本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺：清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层→制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻璃sensor，由前述制备工艺制得。本发明通过设置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显影、蚀刻，可避免双面曝光时相互影响ITO曝光，可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物等外观不良，外观良率由80％提高至95％；取消边缘走线黄光制程，采用印刷银浆工艺，无需蚀刻，解决断线、蚀刻不净等功能问题，电性良率由90％提高至98％；简化了制备工序，提高了生产效率，有效降低了生产成本。

主权项：1.一种双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃传感器sensor制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：步骤S1：清洗玻璃（5）使用弱碱性或中性的洗剂对玻璃（5）的上下两个表面进行清洁；步骤S2：设置UV-Cut涂层使用淋涂、喷涂或蒸镀工艺在玻璃（5）上表面和下表面分别形成UV-Cut涂层，玻璃（5）的上表面为上UV-Cut涂层（4），玻璃（5）的下表面为下UV-Cut涂层（6）；步骤S3：制备ITO玻璃通过磁控溅射工艺，将ITO镀膜在上UV-Cut涂层（4）和下UV-Cut涂层（6）的表面，通过调整磁控溅射的条件控制ITO镀膜厚度得到所需方阻的ITO玻璃；步骤S4：双面涂布光刻胶在ITO玻璃的A面和B面同时涂布光刻胶，然后进行烘烤，烘烤温度为60℃～120℃，烘烤时间为10min～30min；步骤S5：ITO玻璃的双面曝光、显影将设计好的A面和B面的玻璃光罩放置在精密曝光机中，对双面涂布有光刻胶的ITO玻璃进行双面曝光，曝光后在显影液中进行显影，将A面和B面ITOpattern显影出来，再经过水洗、风干后，将ITO玻璃表面液体干燥完毕；步骤S6：ITO玻璃的双面蚀刻将ITO玻璃的A面和B面置于蚀刻液进行双面蚀刻，去掉面内pattern不需要的ITO，留下面内pattern需要的ITO；经过水洗、风干后再在剥膜液中将双面的光刻胶剥离除去，经过水洗、风干后得到上面内pattern（2）和下面内pattern（7）的ITO玻璃；步骤S7：印刷和镭射上边缘走线（3）和下边缘走线（8）在A面ITOPattern边缘通过丝网印刷技术印刷银浆，并进行烘烤，形成具有厚度的块状银浆，再通过高精度镭射机镭射出具有线宽线距的线路，得到上边缘走线（3）；再在B面ITOPattern边缘通过丝网印刷技术印刷银浆，并进行烘烤，形成具有厚度的块状银浆，再通过高精度镭射机镭射出具有线宽线距的线路，得到下边缘走线（8）；烘烤温度均为120℃～140℃，烘烤时间均为10min～30min；步骤S8：印刷可剥胶在A面通过丝网印刷技术印刷可剥胶，并进行烘烤，形成具有厚度的上可剥胶（1），再在B面通过丝网印刷技术印刷可剥胶，并进行烘烤，形成具有厚度的下可剥胶（9）；烘烤温度均为在120℃～150℃，烘烤时间均为10min～30min。

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