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一种非接触式曝光设备 

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申请/专利权人:苏州天准科技股份有限公司

摘要:本实用新型提供了一种非接触式曝光设备,属于光伏行业中电池镀铜的图形化领域,曝光设备包括安装于底架上的掩膜支撑模组、上料模组、曝光光学模组、定位相机模组、测厚模组和控制模组;上料模组用于将产品相对于掩膜支撑模组的调平、传输、定位和调高;定位相机模组安装于所述曝光光学模组上,用于对下方产品的定位;测厚模组对上料模组上的产品进行厚度检测;本申请的方案结构简单、易于实施、便于维护,成本低、精度高,可在电池片的图形化领域推广应用。

主权项:1.一种非接触式曝光设备,其特征在于:所述非接触式曝光设备包括安装于底架1000上的掩膜支撑模组100、上料模组200、曝光光学模组300、定位相机模组400、测厚模组500和控制模组;其中,所述掩膜支撑模组100用于支撑和定位掩膜版;所述上料模组200用于将待曝光的产品相对于掩膜支撑模组100的调平、传输、定位和调高;所述曝光光学模组300用于向所述掩膜支撑模组100提供曝光光源;定位相机模组400安装于所述曝光光学模组300上,用于对下方产品的定位;所述测厚模组500用于对上料模组200上的产品进行厚度检测;所述控制模组与上料模组200、曝光光学模组300、定位相机模组400和测厚模组500电讯连接,用于设备的控制。

全文数据:

权利要求:

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