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申请/专利权人：福建旗山湖医疗科技有限公司
摘要：本发明公开了一种基于掩模交叉投影的光源标记二维定位方法，包括以下步骤：将发光元件固定在定位目标上，将传统相机的光学镜头替换为两块焦距不同的点阵掩模板并通过替换后的相机进行拍摄；掩模板上刻蚀点阵图案在发光元件的照明下投影于像面并进行畸变校正，获得低频的摩尔图案，基于所述摩尔图案构建摩尔图案函数；对所述摩尔图案函数进行周期标号和内参标定解出波形函数，基于波形函数确定光源位置，根据光源位置获得定位目标位置。通过上述方法能够准确定位出定位目标。
主权项：1.一种基于掩模交叉投影的光源标记二维定位方法，其特征在于，包括以下步骤：将发光元件固定在定位目标上，将传统相机的光学镜头替换为两块焦距不同的点阵掩模板并通过替换后的相机进行拍摄；掩模板上刻蚀点阵图案在发光元件的照明下投影于像面并进行畸变校正，获得低频的摩尔图案，基于所述摩尔图案构建摩尔图案函数；对所述摩尔图案函数进行周期标号和内参标定解出波形函数，基于波形函数确定光源位置，根据光源位置获得定位目标位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 福建旗山湖医疗科技有限公司 一种基于掩模交叉投影的光源标记二维定位方法
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