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氧化物半导体膜、薄膜晶体管、溅射靶和氧化物烧结体 

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申请/专利权人:株式会社神户制钢所;株式会社神钢科研

摘要:本发明其目的在于,提供一种氧化物半导体膜,能够同时提高薄膜晶体管的载流子迁移率和对于环境温度的稳定性。本发明的一个方式的氧化物半导体膜,是用于薄膜晶体管的氧化物半导体膜,作为金属元素,含有In和Zn、与作为La和Nd中任意一个的元素X,全部金属元素中的上述In、上述Zn和上述X的含量为,In:30atm%以上且90atm%以下,Zn:9atm%以上且70atm%以下,X:0.0001atm%以上且2atm%以下。

主权项:1.一种氧化物半导体膜,是用于薄膜晶体管的氧化物半导体膜,其中,作为金属元素,含有:In和Zn;作为La和Nd中任意一个的元素X,全部金属元素中的所述In、所述Zn和所述X的含量为,In:30atm%以上且90atm%以下,Zn:9atm%以上且70atm%以下,X:0.0001atm%以上且2atm%以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社神户制钢所 株式会社神钢科研 氧化物半导体膜、薄膜晶体管、溅射靶和氧化物烧结体

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