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申请/专利权人：上海盛剑半导体科技有限公司
摘要：本申请公开了一种干式真空泵及废气处理系统，所述干式真空泵包括泵体和氮气吹扫装置，泵体具有多个氮气注入口，氮气吹扫装置包括分配器、多个单向限流件以及多条配气管路，单向限流件安装于分配器的出气口并连通在出气口与配气管路之间，多个配气管路分别与多个氮气注入口连接，分配器设置于泵体的轴向一侧，多条配气管路布置于泵体的下方并沿泵体的轴向方向延伸。通过将多个单向限流件集成设置于分配器上，并合理规划分配器与泵体、配气管路与泵体之间的相对位置，为单向限流件的维护与更换操作提供了足够空间，解决了现有技术中因单向限流件设置于泵体下方而导致更换维护不便利的问题，提高了便利性。
主权项：1.一种干式真空泵（100），其特征在于，包括：泵体（10），所述泵体（10）具有多个第一氮气注入口（11）；氮气吹扫装置（20），所述氮气吹扫装置（20）包括：分配器（21）、多条配气管路（22）、以及多个单向限流件（23），所述分配器（21）内开设有一条进气通道（211）和多条导气通道（212），所述导气通道（212）在气体流动方向上连通于所述进气通道（211）的下游；所述分配器（21）上还开设有进气口（213）和多个出气口（214），所述进气口（213）与所述进气通道（211）连通，多个所述出气口（214）与多个所述导气通道（212）一一对应连通；多条所述配气管路（22）分别连接于多个所述出气口（214）与多个所述第一氮气注入口（11）之间；所述单向限流件（23）安装于所述出气口（214），并连接在所述出气口（214）与所述配气管路（22）之间；所述分配器（21）设置于所述泵体（10）的轴向一侧，多条所述配气管路（22）布置于所述泵体（10）的下方并沿所述泵体（10）的轴向方向延伸。
全文数据：
权利要求：
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