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申请/专利权人：浙江奕彩电子有限公司
摘要：本发明涉及柔性包装薄膜材料技术领域，且公开了一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，所述采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法包括以下具体步骤：基片准备、真空室准备、靶材安装、溅射气体引入、磁控溅射镀膜、镀膜参数控制、镀膜后处理、成品检测，该采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，通过在镀铝结束后对基片的表面进行平整度处理以及通过等离子体处理进行表面改性处理，可以有效的提高膜层的附着力和性能，有效的避免长时间使用出现脱落的现象，该采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，通过对成品进行厚度测量、附着力测试、表面粗糙度测试、光学性能测试，可以有效的确保镀铝膜的质量。
主权项：1.一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，其特征在于：所述采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法包括以下具体步骤：S1、基片准备，选择塑料薄膜作为基片，对其进行清洗和处理，以去除表面的污染物和杂质；S2、真空室准备：将处理后的基片放入真空室中，并关闭真空室门，启动真空系统，排除真空室中的空气，使真空度达到目标值；S3、靶材安装：将纯铝靶材安装在磁控溅射靶上，并确保靶材与基片表面之间的距离适当；S4、溅射气体引入：向真空室中引入溅射气体；S5、磁控溅射镀膜：开启磁控溅射电源，产生磁场，使氩气电离形成等离子体，在磁场的作用下，等离子体中的氩离子会加速撞击铝靶材表面，溅射出铝原子，这些铝原子会在基片表面沉积并形成镀铝膜；S6、镀膜参数控制：在溅射镀膜过程中，需要控制溅射功率、溅射时间、溅射气体流量、工作压力这些镀膜参数；S7、镀膜后处理：完成溅射镀膜后，需要对镀铝膜进行退火处理以及表面处理；S8、成品检测：对制备好的镀铝膜进行质量检测，其中质量检测包括厚度测量、附着力测试、表面粗糙度测试、光学性能测试。
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