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申请/专利权人：柯马杜股份有限公司
申请日：2022-10-21
公开（公告）日：2025-01-17
公开（公告）号：CN116027652B
专利技术分类：
专利摘要：本发明涉及一种装饰基底1的方法，其包括相继的下列步骤：提供基底1；在基底1的表面上沉积牺牲材料层2；将牺牲材料层2结构化以在这种牺牲材料层2中创建许多空洞4以形成装饰或技术图案12；除了在提供图案12的位置外，清除牺牲材料层2。
专利权项：1.一种装饰基底1的方法，其包括相继的下列步骤：-提供基底1；-在基底1的表面上沉积牺牲材料层2；-将牺牲材料层2结构化以在该牺牲材料层2中创建许多空洞4以形成装饰或技术图案12；20；-除了在提供图案12；20的位置外，清除牺牲材料层2，其中在牺牲材料层2的结构化以在其中创建空洞4之后和在除了在提供图案12；20的位置外在基底1的整个表面上清除牺牲材料层2之前，在包含空洞的牺牲材料层2上沉积至少一个附加精整层8，其中在牺牲材料层2的结构化和沉积附加精整层8之后，在被附加精整层8涂布的牺牲材料层2上沉积光敏树脂层10；18。
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