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龙图腾网恭喜三星显示有限公司申请的专利溅射装置及利用其的溅射方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112301318B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-01-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010138214.0，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权溅射装置及利用其的溅射方法是由李宽龙;南相睦;金显佑;边宰号设计研发完成，并于2020-03-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本溅射装置及利用其的溅射方法在说明书摘要公布了：本公开的一实施例公开了一种溅射装置，包括：腔室，分别安装有溅射对象体和目标物；和磁铁部，在所述目标物形成磁场并沿着第一方向往返移动，所述磁铁部具备一个以上的单元磁铁，所述单元磁铁包括沿着与所述第一方向垂直的第二方向延伸的中心磁铁、以及隔开预定间隔围绕所述中心磁铁的外围磁铁，所述中心磁铁在沿着所述第二方向的端部的宽度相比于所述中心磁铁的本体的中心部更窄。

本发明授权溅射装置及利用其的溅射方法在权利要求书中公布了：1.一种溅射装置，其中，所述溅射装置包括：腔室，分别安装有溅射对象体和目标物；和磁铁部，在所述目标物形成磁场并沿着第一方向往返移动，所述磁铁部具备一个以上的单元磁铁，所述单元磁铁包括沿着与所述第一方向垂直的第二方向延伸的中心磁铁、以及隔开预定间隔围绕所述中心磁铁的外围磁铁，所述中心磁铁的在沿着所述第二方向的端部的宽度相比于所述中心磁铁的本体的中心部更窄，多个所述单元磁铁沿着所述第一方向配置，当将各个所述单元磁铁的所述外围磁铁的宽度定义为t1，将相邻的所述外围磁铁的末端部之间的间隔定义为d1，将各个所述单元磁铁的所述第一方向上的移动距离定义为SL，将相邻的所述中心磁铁的本体的中心部之间的间隔定义为W时，满足W＝d1+3·t1SL的关系。

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