恭喜上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司徐振亚获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利外延装置及其硅片承载结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222574854U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420433805.4，技术领域涉及：C30B25/12；该实用新型外延装置及其硅片承载结构是由徐振亚;武青青设计研发完成，并于2024-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本外延装置及其硅片承载结构在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种外延装置及其硅片承载结构，硅片承载结构包括基座、支撑组件和第一耐温层，基座具有受热面；支撑组件沿受热面的法向于受热面上的投影区域包括第一投影和多个第二投影，第二投影和第一投影相连，且多个第二投影围绕第一投影周向间隔地排布；任意相邻的两个第二投影与第一投影之间的受热面设置第一耐温层。本实用新型在任意相邻的两个第二投影与第一投影之间的受热面设置第一耐温层，可以通过第一耐温层吸收光线的热量来降低该区域的加热效率，从而使得受热面整体加热效果达到均衡，保证基座受热均匀以使基座上固定的硅片在工艺过程中片内温度均匀，生长的外延层均匀。
本实用新型外延装置及其硅片承载结构在权利要求书中公布了：1.一种硅片承载结构，其特征在于，包括：基座，所述基座具有受热面；支撑组件，所述支撑组件与所述受热面连接，所述支撑组件沿所述受热面的法向于所述受热面上的投影区域包括第一投影和多个第二投影，所述第二投影和所述第一投影相连，且多个所述第二投影围绕所述第一投影周向间隔地排布；第一耐温层，任意相邻的两个所述第二投影与所述第一投影之间的所述受热面设置所述第一耐温层。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司，其通讯地址为：201807 上海市嘉定区娄陆公路497号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号