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龙图腾网恭喜苏州中砥半导体材料有限公司;中砥半导体技术(江苏)有限公司申请的专利用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119347620B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411933775.4，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法是由顾正伟;晏善成;奚耀华;李骏杰设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法在说明书摘要公布了：本发明属于抛光设备领域，具体提供了一种用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法，其中，用于金刚石晶体的抛光设备包括：支撑架；旋转台，其转动设置在支撑架上，且旋转台的顶面开设有多个同心设置的圆环状蓄液槽；驱动机构，其设置在支撑架上，且用于驱动旋转台转动；抛光布，其设置在旋转台上，且用于金刚石晶体的倒角抛光。通过在旋转台顶面设置多个同心设置的圆环状蓄液槽，旋转台转动时，圆环状蓄液槽中的抛光液在离心力的作用下，向外飞溅，从而对圆环状蓄液槽正对的抛光布持续浸润，保持抛光布中水分的充足，从而避免抛光布中抛光液出现结晶析出的现象。同时，提高了对抛光液的利用效率，减少了抛光液的浪费，从而降低了抛光的成本。

本发明授权用于金刚石晶体的抛光设备及其抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种用于金刚石晶体的抛光设备，其特征在于，包括：支撑架（100）；旋转台（200），其转动设置在所述支撑架（100）上，且所述旋转台（200）的顶面开设有多个同心设置的圆环状蓄液槽（210）；驱动机构（300），其设置在所述支撑架（100）上，且用于驱动所述旋转台（200）转动；抛光布（400），其设置在所述旋转台（200）上，且用于金刚石晶体（600）的倒角抛光；在抛光时，所述驱动机构（300）驱动所述旋转台（200）转动时，所述圆环状蓄液槽（210）中的抛光液在离心力的作用下，向外飞溅，从而对圆环状蓄液槽（210）正对的抛光布（400）持续浸润；所述圆环状蓄液槽（210）内设置有升降环（220）；所述升降环（220）的尺寸与所述圆环状蓄液槽（210）的尺寸适配；所述用于金刚石晶体的抛光设备还包括抬升件（230）；所述旋转台（200）的侧壁沿直径方向开设有与每个所述圆环状蓄液槽（210）连通的插孔（240）；所述抬升件（230）设置在所述插孔（240）内，且在将所述抬升件（230）从所述插孔（240）内抽出时，将每个所述圆环状蓄液槽（210）内的升降环（220）快速抬升，完成对所述抛光布（400）上残留物的冲洗。

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