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龙图腾网恭喜上海贺东电子材料有限公司申请的专利绝缘镀层孔隙率测量方法、设备、存储介质及程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119198498B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411718955.0，技术领域涉及：G01N15/08；该发明授权绝缘镀层孔隙率测量方法、设备、存储介质及程序产品是由崔佳平;胡兵;嵇文强;杨佳晖设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本绝缘镀层孔隙率测量方法、设备、存储介质及程序产品在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体设备技术领域，提供一种绝缘镀层孔隙率测量方法、设备、存储介质及程序产品，方法包括：提供多个样品基材；获取样品基材在低气压、均匀电场条件下的第一放电电流数据和孔隙率，建立孔隙率与第一放电电流数据相对应的映射表并存储在数据库中；将待检测样品设置在相同的低气压、均匀电场条件下进行自持放电，获取第二放电电流数据；基于第二放电电流数据，通过查找映射表，获得待检测样品相应的孔隙率。本申请在不破坏镀层的条件下，通过预先建立孔隙率与放电电流数据之间的映射表，然后根据待检测样品的放电电流数据可以快速地查找到对应的孔隙率，从而提高了测量效率。实现了对产品的各部位镀层进行全面性检测，检测数据完整。

本发明授权绝缘镀层孔隙率测量方法、设备、存储介质及程序产品在权利要求书中公布了：1.一种绝缘镀层孔隙率测量方法，其特征在于，应用于检测绝缘介质击穿特性的测试装置，所述方法包括：提供多个样品基材；获取所述样品基材在低气压、均匀电场条件下的第一放电电流数据和孔隙率，建立所述孔隙率与所述第一放电电流数据相对应的映射表并存储在数据库中；所述建立所述孔隙率与所述第一放电电流数据相对应的映射表并存储在数据库中的步骤，包括：在数据库中创建对应于不同的绝缘材料或镀层厚度的数据库表，所述数据库表设置的字段包括：绝缘材料类型、镀层厚度、放电电流数据和孔隙率；在不同的绝缘材料或镀层厚度下，所测得第一放电电流数据和孔隙率存储在对应的所述数据库表中，以形成所述孔隙率与所述第一放电电流数据相对应的映射表；将待检测样品设置在相同的所述低气压、均匀电场条件下进行自持放电，获取第二放电电流数据；基于所述第二放电电流数据，通过查找所述映射表，获得所述待检测样品相应的孔隙率。

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