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龙图腾网恭喜中国科学院上海技术物理研究所申请的专利一种预设真空环境焦面的焦面补偿方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118838052B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410875335.1，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种预设真空环境焦面的焦面补偿方法是由刘云猛;丁雷;楚晴;段慧仙;孙中洲设计研发完成，并于2024-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种预设真空环境焦面的焦面补偿方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种预设真空环境焦面的焦面补偿方法，该方法包括以下步骤：首先，在Zemax软件中将环境参数中气压数值设为0个大气压，设置好系统物距及其他光学参数，将系统的后截距设为唯一变量，经过像质优化得到后截距，并将后截距上的变量取消，使之固定；之后，将平行光管的参数输入Zemax光学系统，取代之前的物距，将环境参数中气压数值设为1个大气压，将平行光管光源与平行光管主面的距离设为唯一变量进行像质优化；最后，比较优化后得到的光源距离与平行光管的焦距，通过调整平行光管光源位置，在常压条件下对预设真空焦面的焦面补偿。本发明的优点在于：在实验室大气环境下对光学系统进行光效，可实现对预设真空焦面的焦面进行补偿，即可实现真空环境下目标的清晰成像。

本发明授权一种预设真空环境焦面的焦面补偿方法在权利要求书中公布了：1.一种预设真空环境焦面的焦面补偿方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：1）得到真空环境下的后截距，具体步骤如下：1-1）在Zemax软件中将环境参数中气压数值设为0个大气压，设置系统物距及相关光学参数；1-2）将后截距设为变量进行像质优化；1-3）优化结束后得到后截距，将变量取消，使之固定；2）确定平行光管光源移动方向与距离，具体步骤如下：2-1）将平行光管的参数输入Zemax光学系统，取代之前的物距；2-2）将环境参数中气压数值设为1个大气压；2-3）将平行光管光源与平行光管主面的距离设为唯一变量进行像质优化；2-4）比较分析优化后得到的光源距离与平行光管的焦距，用于移动平行光管光源；3）按照分析结果移动平行光管光源，并进行光校。

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