恭喜杭州众硅电子科技有限公司张佳林获国家专利权
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龙图腾网恭喜杭州众硅电子科技有限公司申请的专利一种抛光垫及晶圆抛光系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222589300U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420328716.3，技术领域涉及：B24B37/26；该实用新型一种抛光垫及晶圆抛光系统是由张佳林;朱政挺设计研发完成，并于2024-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光垫及晶圆抛光系统在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种抛光垫，铺设于抛光台，该抛光垫具有贯穿其厚度方向的通孔，及设于其上表面的槽体，所述通孔和槽体内均蓄积有抛光液，且通孔和槽体的总横截面积自抛光垫内圈沿径向向外圈梯度增大。本实用新型还公开了一种晶圆抛光系统。本实用新型通孔贯穿抛光垫的厚度方向，进行抛光作业时，通孔内充满可导电的抛光液，从而联通晶圆和抛光台，形成电流通路，使抛光垫具有良好的导电性；抛光台带动抛光垫旋转时，外圈转速高，中心转速低，晶圆抛光作业时，抛光垫外圈与晶圆接触时间更短，将抛光垫上外圈通孔和槽体的总横截面积设计为更大，可以填充更多的抛光液，也可保证通过晶圆电流的均匀性，使得晶圆被均匀抛光。
本实用新型一种抛光垫及晶圆抛光系统在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫，铺设于抛光台，其特征在于：该抛光垫具有贯穿其厚度方向的通孔，及设于其上表面的槽体，所述通孔和槽体内均蓄积有抛光液，且通孔和槽体的总横截面积自抛光垫内圈沿径向向外圈梯度增大。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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