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龙图腾网恭喜株式会社日立高新技术申请的专利解析系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116157891B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080105369.2，技术领域涉及：G01B15/00；该发明授权解析系统是由金野杏彩;设乐宗史;藤村一郎;切畑大二;三濑大海设计研发完成，并于2020-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本解析系统在说明书摘要公布了：本发明的目的在于迅速且高精度地取得多层构造的深度信息。解析系统具备如下步骤：a从第一方向对包含多层构造的试样SAM照射电子束EB1，由此取得从第一方向观察到的试样SAM的第一拍摄像；b从与第一方向交叉的第二方向对试样SAM照射电子束EB1，由此取得从第二方向观察到的试样SAM的第二拍摄像；c使用第一拍摄像、第二拍摄像、以及包含多层构造的层数、多层构造的1层的厚度或各层的厚度、多层构造的第一层起始的深度的试样SAM的信息，取得多层构造的深度信息。

本发明授权解析系统在权利要求书中公布了：1.一种解析系统，其特征在于，具备如下步骤：a从第一方向对包含多层构造的试样照射电子束，由此取得从所述第一方向观察到的所述试样的第一拍摄像；b从与所述第一方向交叉的第二方向对所述试样照射所述电子束，由此取得从所述第二方向观察到的所述试样的第二拍摄像；以及c使用所述第一拍摄像、所述第二拍摄像和包括所述多层构造的层数、所述多层构造的1层的厚度或各层的厚度、所述多层构造的第一层起始的深度的所述试样的信息，来取得所述多层构造的深度信息，所述试样具有：上表面；所述上表面的相反侧的下表面；观察面，其以从所述上表面朝向所述下表面倾斜的方式形成于所述上表面的一部分；以及截断面，其在所述观察面处被截断，所述步骤c具有以下步骤：c1在所述第一拍摄像中，将在所述观察面露出的所述多层构造的第一部位指定为从所述第一方向观察到的第一基准坐标x1，y1；c2在所述第二拍摄像中，将在所述观察面露出且与所述第一基准坐标x1，y1的坐标x1对应的所述多层构造的第二部位指定为从所述第二方向观察到的第二基准坐标x1，z1；c3在所述第一拍摄像中，将在所述观察面露出且与所述第一部位不同的所述多层构造的第三部位指定为从所述第一方向观察到的第一观察坐标x2，y2；c4在所述第二拍摄像中，将在所述观察面露出且与所述第一观察坐标x2，y2的坐标x2对应的所述多层构造的第四部位指定为从所述第二方向观察到的第二观察坐标x2，z2；以及c5运算所述第二观察坐标x2，z2距所述第二基准坐标x1，z1的深度，所述多层构造的深度信息包含所述第二观察坐标x2，z2距所述第二基准坐标x1，z1的深度。

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