恭喜株式会社EUGENE科技崔伦硕获国家专利权
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龙图腾网恭喜株式会社EUGENE科技申请的专利利用等离子体处理基板的装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114127888B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080051578.3,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权利用等离子体处理基板的装置是由崔伦硕设计研发完成,并于2020-07-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本利用等离子体处理基板的装置在说明书摘要公布了:依据本发明的实施例的利用等离子体处理基板的装置,包括:腔室,形成被供应处理气体的内部空间;基板固持器,设置在上述内部空间中以支持基板;介电窗,位于上述基板固持器上部;至少一个天线,设置在上述介电窗外侧,以便由供应至上述内部空间的上述处理气体生成感应等离子体;及至少一个金属屏蔽层,设置在上述天线与上述感应等离子体之间。
本发明授权利用等离子体处理基板的装置在权利要求书中公布了:1.一种利用等离子体处理基板的装置,其特征在于,包括:腔室,形成被供应处理气体的内部空间;基板固持器,设置在上述内部空间中以支持基板;介电窗,位于上述基板固持器上部;多个天线,设置在上述介电窗外侧,以便由供应至上述内部空间的上述处理气体生成感应等离子体;及至少一个金属屏蔽层,设置在上述天线与上述感应等离子体之间,上述介电窗包括:多个收纳空间,从上述介电窗的上表面凹入,上述金属屏蔽层及上述天线从内侧依次收纳于该收纳空间;及多个生成空间,在上述收纳空间之间用于生成上述感应等离子体,从上述介电窗的下表面凹入,位于与上述天线相同高度,上述收纳空间及上述生成空间从上述介电窗中心向上述介电窗边缘交替配置,上述多个天线包括:具有第一直径的圆柱形第一天线,以上述介电窗的中心为基准;及具有第二直径的圆柱形第二天线,以上述介电窗的中心为基准,上述第二直径比上述第一直径大,上述收纳空间包括:环形的第一收纳空间,用于收纳上述第一天线;及环形的第二收纳空间,用于收纳上述第二天线。
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