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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利用于在PVD处理中减少颗粒的处理配件几何形状获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111602235B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980008457.8，技术领域涉及：H01L21/687；该发明授权用于在PVD处理中减少颗粒的处理配件几何形状是由阿道夫·M·艾伦;克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚;兰德尔·D·施密丁;凡妮莎·法恩设计研发完成，并于2019-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于在PVD处理中减少颗粒的处理配件几何形状在说明书摘要公布了：处理配件包括屏蔽件及环组件，用于在处理腔室中围绕基板支撑件定位，以减少处理沉积物在内部腔室部件及基板的悬伸边缘上的沉积。屏蔽件包括圆筒形带，该圆筒形带具有顶壁及底壁的倾斜部分，该顶壁被配置为围绕溅射靶材，该底壁的倾斜部分具有实质直的轮廓、具有气体传导孔且被配置为围绕基板支撑件。环组件包括盖环，该盖环具有围绕所述环的周边的球形突起。盖环的球形突起能够阻挡屏蔽件上的气体传导孔与处理腔室中的腔室主体空腔的入口之间的视线。

本发明授权用于在PVD处理中减少颗粒的处理配件几何形状在权利要求书中公布了：1.一种处理配件屏蔽件，所述处理配件屏蔽件被配置为环绕溅射靶材，所述溅射靶材面向基板处理腔室中的基板支撑件，所述基板处理腔室包括位于所述基板支撑件的周围的盖环，所述盖环包括环形楔形件，所述环形楔形件包括围绕所述基板支撑件的倾斜顶表面，所述倾斜顶表面具有内周边和外周边以及围绕所述倾斜顶表面的所述外周边的球形突起，所述处理配件屏蔽件包括：圆筒形带，所述圆筒形带具有顶壁及底壁，所述顶壁被配置为围绕所述溅射靶材，所述底壁被配置为围绕所述基板支撑件；倾斜壁，所述倾斜壁从所述圆筒形带的所述底壁向下且径向向内延伸，所述倾斜壁具有实质直的轮廓；及至少一个气孔，所述至少一个气孔位于所述倾斜壁的下部上，以允许处理气体从所述气孔中通过，其中所述至少一个气孔位于所述倾斜壁的所述下部上以使得所述盖环的所述球形突起在被安装到所述基板处理腔室中时，阻挡所述屏蔽件上的所述至少一个气孔与所述基板处理腔室的腔室主体空腔的入口之间的视线。

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