恭喜材料科学姑苏实验室郭丽彬获国家专利权
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龙图腾网恭喜材料科学姑苏实验室申请的专利一种氧化镓薄膜及其制备方法与紫外探测器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119314865B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411834712.3，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权一种氧化镓薄膜及其制备方法与紫外探测器件是由郭丽彬;周大勇;祝曾伟;杨慧永;赵文超;乔楠;顾俊;申德振设计研发完成，并于2024-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种氧化镓薄膜及其制备方法与紫外探测器件在说明书摘要公布了：本发明涉及一种氧化镓薄膜及其制备方法与紫外探测器件，所述制备方法包括：在衬底上生长氧化镓缓冲层；在所述氧化镓缓冲层远离所述衬底的表面形成镓空位氧化镓层；在所述镓空位氧化镓层远离所述衬底的表面生长氧化镓层；得到所述氧化镓薄膜；所述形成镓空位氧化镓层的过程中，间歇性通入氧源并退火处理。本发明的制备方法通过间歇性通入氧源，得到富含镓空位的镓空位氧化镓层，降低了氧化镓薄膜的位错密度，应用于紫外探测器件时，提高了器件的性能与可靠性。
本发明授权一种氧化镓薄膜及其制备方法与紫外探测器件在权利要求书中公布了：1.一种氧化镓薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在衬底上生长氧化镓缓冲层；在所述氧化镓缓冲层远离所述衬底的表面形成镓空位氧化镓层；在所述镓空位氧化镓层远离所述衬底的表面生长氧化镓层；得到所述氧化镓薄膜；所述形成镓空位氧化镓层的过程中，间歇性通入氧源并退火处理；所述间歇性通入氧源包括：通入氧源3s-10s，然后停止通入氧源2s-6s，循环直至得到厚度10nm-500nm的氧化镓外延层；所述形成镓空位氧化镓层包括：镓源持续通入且间歇性通入氧源的条件下得到氧化镓外延层，经退火处理形成所述镓空位氧化镓层。
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