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龙图腾网恭喜通用表面增强光谱学有限公司申请的专利一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特性的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113795744B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980096366.4，技术领域涉及：G01N15/1429；该发明授权一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特性的方法是由F·瓦尔特设计研发完成，并于2019-05-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特性的方法在说明书摘要公布了：根据本发明，提供了一种用于确定流体样品中的颗粒特性和或用于确定流体样品的污染特性的方法，所述方法包括以下步骤，a在衬底的表面上沉积金属膜，以在所述衬底上提供光滑的金属表面；b使流体样品与衬底的所述金属表面接触；c从所述金属表面移除与所述金属表面接触的所述流体样品，使得仅所述流体样品中的颗粒保留在衬底的金属表面上；d在所述金属表面和保留在衬底的所述金属表面上的所述颗粒上沉积金属层，使得每个所述颗粒被提供有相应金属层，并且所述金属表面的没有颗粒的区域被提供有金属层，其中，对于每个颗粒，在颗粒上的金属层和所述金属表面上的金属层之间存在间隙；e用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线被所述颗粒上的金属层散射以分别产生散射的电磁射线；或者用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线的至少一部分被所述颗粒上的金属层吸收，并且所述电磁射线的另一部分被衬底上的金属表面反射以产生反射的电磁射线；f在光电二极管阵列处接收散射的电磁射线；或者在光电二极管阵列处接收所述反射的电磁射线；g形成包括像素的图像，其中图像中的每个像素对应于所述阵列中的相应光电二极管，其中所述图像中每个像素的亮度对应于与该像素相对应的光电二极管接收到的电磁射线的强度；h处理所述形成的图像以确定所述颗粒特性，和或处理所述形成的图像以确定流体样品的污染特性。

本发明授权一种用于确定流体样品中的颗粒特性和/或用于确定流体样品的污染特性的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于确定流体样品中的颗粒特性和或用于确定流体样品的污染特性的方法，所述方法包括以下步骤，a在衬底的表面上沉积金属膜，以在所述衬底上提供光滑的金属表面；b使流体样品与衬底的所述金属表面接触；c从所述金属表面移除与所述金属表面接触的所述流体样品，使得仅所述流体样品中的颗粒保留在衬底的金属表面上；d在所述金属表面和保留在衬底的所述金属表面上的所述颗粒上沉积金属层，使得每个所述颗粒被提供有相应金属层，并且所述金属表面的没有颗粒的区域被提供有金属层，其中，对于每个颗粒，在颗粒上的金属层和所述金属表面上的金属层之间存在间隙；e用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线被所述颗粒上的金属层散射以分别产生散射的电磁射线；或者用电磁射线照射所述颗粒和金属表面上的所述金属层，使得所述电磁射线的至少一部分被所述颗粒上的金属层吸收，并且所述电磁射线的另一部分被衬底上的金属表面反射以产生反射的电磁射线；f在光电二极管阵列处接收散射的电磁射线；或者在光电二极管阵列处接收所述反射的电磁射线；g形成包括像素的图像，其中图像中的每个像素对应于所述阵列中的相应光电二极管，其中所述图像中每个像素的亮度对应于与该像素相对应的光电二极管接收到的电磁射线的强度；h处理所述形成的图像以确定所述颗粒特性，和或处理所述形成的图像以确定流体样品的污染特性。

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