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恭喜安徽华鑫微纳集成电路有限公司张伟获国家专利权

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龙图腾网恭喜安徽华鑫微纳集成电路有限公司申请的专利一种用于硅压力传感器TMAH腐蚀槽匀流板及其应用的腐蚀槽获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119352170B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411906883.2,技术领域涉及:C30B33/10;该发明授权一种用于硅压力传感器TMAH腐蚀槽匀流板及其应用的腐蚀槽是由张伟;姚健;唐秋菊设计研发完成,并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于硅压力传感器TMAH腐蚀槽匀流板及其应用的腐蚀槽在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于硅压力传感器TMAH腐蚀槽匀流板及其应用的腐蚀槽,包括板体,所述板体上开有匀流孔,板体安装在腐蚀槽内,且腐蚀槽的底部有进液孔,进液孔与板体相对,和现有技术不同的是,所述板体的底部安装有与进液孔相对的辅助匀流盘;所述辅助匀流盘包括安装件,所述安装件安装在所述板体上,所述安装件上竖向转动安装有盘体,所述盘体相对所述安装件转动的轴线与所述进液孔的轴线平行,所述盘体具有与所述进液孔相对的部分,所述进液孔排出的液体冲击盘体并带动盘体转动。本发明中,结构简单,通过辅助匀流盘与进液孔相对避免进液孔中的液体直接对与其相对的匀流孔冲击进而增大多个匀流孔排出液体的压强一致性。

本发明授权一种用于硅压力传感器TMAH腐蚀槽匀流板及其应用的腐蚀槽在权利要求书中公布了:1.一种用于硅压力传感器TMAH腐蚀槽匀流板,包括板体1,所述板体1上开有匀流孔2,板体1安装在腐蚀槽内,且腐蚀槽的底部有进液孔3,进液孔3与板体1相对,其特征在于,所述板体1的底部安装有与进液孔3相对的辅助匀流盘4;所述辅助匀流盘4包括安装件40,所述安装件40安装在所述板体1上,所述安装件40上竖向转动安装有盘体41,所述盘体41相对所述安装件40转动的轴线与所述进液孔3的轴线平行,所述盘体41具有与所述进液孔3相对的部分,所述进液孔3排出的液体冲击盘体41并带动盘体41转动;所述辅助匀流盘4至少设有两组,至少两组所述辅助匀流盘4周向分布在所述进液孔3的轴线外;至少两组所述辅助匀流盘4的盘体41沿所述进液孔3的轴线方向分布。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人安徽华鑫微纳集成电路有限公司,其通讯地址为:233000 安徽省蚌埠市经济开发区东海大道888号中国(蚌埠)传感谷A区L1厂房5楼;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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