恭喜焦作市和兴化学工业有限公司蒋志行获国家专利权
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龙图腾网恭喜焦作市和兴化学工业有限公司申请的专利具有高导电性的炭黑及其制备方法、设备和电极、二次电池获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117701035B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311792302.2，技术领域涉及：C09C1/54；该发明授权具有高导电性的炭黑及其制备方法、设备和电极、二次电池是由蒋志行;杨宁宁;雷金刚;孙恬恬;索荣;刘新生;贾水利;朱立才设计研发完成，并于2023-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有高导电性的炭黑及其制备方法、设备和电极、二次电池在说明书摘要公布了：本发明涉及炭黑材料技术领域，尤其是涉及一种具有高导电性的炭黑及其制备方法、设备和电极、二次电池。具有高导电性的炭黑，所述炭黑的初级粒子的平均粒径为20～40nm；所述炭黑的初级粒子包括球体和位于所述球体表面的类石墨烯片凸起。本发明的炭黑在球体表面具有类石墨烯片凸起，同时具有炭黑和石墨烯的特性，可以在初级粒子之间或者与电极材料颗粒间形成点面接触，从而提高了导电率，能够明显提高浆料和电极的导电性。
本发明授权具有高导电性的炭黑及其制备方法、设备和电极、二次电池在权利要求书中公布了：1.具有高导电性的炭黑，其特征在于，所述炭黑的初级粒子的平均粒径为20～40nm；所述炭黑的初级粒子包括球体和位于所述球体表面的类石墨烯片凸起；所述类石墨烯片凸起原位生长于所述球体表面；所述炭黑在激发波长为532nm的拉曼光谱满足如下特征：（1）在2648～2660cm-1范围内的2D拉曼散射峰的半峰全宽Δ2D为80～90cm-1；（2）2D拉曼散射峰的峰强与G拉曼散射峰的峰强的比率为0.55～0.87；（3）拉曼微晶平面尺寸为32～51Å；所述类石墨烯片凸起中的任意两点之间距离的最大值为10～50nm；所述炭黑的结晶度为42%～52%。
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