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龙图腾网恭喜日本株式会社日立高新技术科学申请的专利液体金属离子源和聚焦离子束装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112635276B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010660895.7，技术领域涉及：H01J37/08；该发明授权液体金属离子源和聚焦离子束装置是由小山喜弘;麻畑达也;清原正宽;杨宗翰设计研发完成，并于2020-07-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本液体金属离子源和聚焦离子束装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种液体金属离子源和聚焦离子束装置，能够长期间稳定地释放离子束。该液体金属离子源50具备：贮存室10，其对形成液体金属的离子材料M进行保持；针状电极20，其表面由从贮存室供给的离子材料覆盖；引出电极22，其使离子材料的离子从针状电极的前端释放；射束光圈24，其配置于引出电极的下游侧，对离子的束径进行限制；以及真空室30，其对这些进行收纳并保持为真空，该液体金属离子源50的特征在于，进一步具有氧化性气体导入部40，氧化性气体导入部与真空室连通而向针状电极的周围导入氧化性气体。

本发明授权液体金属离子源和聚焦离子束装置在权利要求书中公布了：1.一种液体金属离子源，其具备：贮存室，其对形成液体金属的离子材料进行保持；针状电极，其表面由从所述贮存室供给的所述离子材料覆盖；引出电极，其使所述离子材料的离子从所述针状电极的前端释放；射束光圈，其配置于所述引出电极的下游侧，对所述离子的束径进行限制；以及真空室，其收纳贮存室、针状电极、引出电极和射束光圈并保持为真空，该液体金属离子源的特征在于，进一步具有氧化性气体导入部，所述氧化性气体导入部与所述真空室连通而向所述针状电极的周围导入氧化性气体，该液体金属离子源进一步具备将所述真空室排气至目标真空度的最终排气系统，所述最终排气系统和所述氧化性气体导入部分别经由不同的流路而与所述真空室连通的情况下，在所述真空室导入有所述氧化性气体的状态下的真空度为5.0×10-6Pa～1.5×10-5Pa；所述最终排气系统和所述氧化性气体导入部经由相同的流路而与所述真空室连通的情况下，在所述真空室导入有所述氧化性气体的状态下的真空度为1.0×10-5Pa～3.0×10-5Pa。

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