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龙图腾网恭喜浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司申请的专利硅基外延片厚度均匀性控制装置及控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119121397B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411590355.0，技术领域涉及：C30B29/06；该发明授权硅基外延片厚度均匀性控制装置及控制方法是由徐新华设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本硅基外延片厚度均匀性控制装置及控制方法在说明书摘要公布了：本发明公开了硅基外延片厚度均匀性控制装置及控制方法，涉及到外延片加工技术领域，包括工作台和炉体，所述炉体固定设置于所述工作台的顶部，还包括进气部，其密封设置于所述炉体的一端，所述进气部包括进气法兰。本发明还公开了硅基外延片厚度均匀性控制方法，包括以下步骤：放片、炉体预清理、外延生长和取片。本发明通过使得外延生长过程中灰尘颗粒堆积在炉体底部以及附着在隔板侧面，简化了对炉体内部进行清理的步骤；清理过程中炉体内被分割为两个独立的密闭腔体，灰尘颗粒不会向上扩散，保证了对炉体内部的清洁效果，同时，需要清理的空间大幅度减小，提高了清理效果和清理效率，提高了外延片的厚度均匀性。

本发明授权硅基外延片厚度均匀性控制装置及控制方法在权利要求书中公布了：1.硅基外延片厚度均匀性控制装置，包括工作台（1）和炉体（2），所述炉体（2）固定设置于所述工作台（1）的顶部，其特征在于，还包括：进气部（3），其包括密封设置于所述炉体（2）一端的进气法兰（301），所述进气法兰（301）远离炉体（2）的一侧连通设置有反应气体进气管（302）和保护气体进气管（305），且保护气体进气管（305）位于所述反应气体进气管（302）的下方；所述进气部（3）还包括：反应气体进气腔（303），其开设于所述进气法兰（301）的内部，且与所述反应气体进气管（302）相连通；反应气体通入口（304），其开设于所述进气法兰（301）靠近炉体（2）的一侧，且其两端分别与炉体（2）、反应气体进气腔（303）相连通；保护气体进气腔（306），其开设于所述进气法兰（301）的内部，且与所述保护气体进气管（305）相连通；保护气体通入腔（307），其开设于所述进气法兰（301）的内部，且位于所述保护气体进气腔（306）的上方；导气槽（308），其开设于所述进气法兰（301）的内部，且其上下两端分别与保护气体通入腔（307）、保护气体进气腔（306）相连通；气孔（309），其均匀环绕开设于所述反应气体通入口（304）的外周，且多个所述气孔（309）均与所述保护气体通入腔（307）相连通；出气部（4），其包括密封设置于所述炉体（2）另一端的出气法兰（401），通过其能够将炉体（2）内的反应气体和保护气体向外导出；承载部（5），其包括设置于所述炉体（2）内部的载物盘（501），通过其能够对外延片进行承托放置；清洁组件（6），其包括两个对称转动设置于炉体（2）内的隔板（601），两个所述隔板（601）中部相互靠近的一侧对称开设有缺口，所述进气法兰（301）靠近炉体（2）的一侧开设有清理口（602），且清理口（602）与所述炉体（2）相连通，所述进气法兰（301）的内部均匀开设有多个与所述清理口（602）相连通的气道（603）；导气组件（7），其设置于所述进气法兰（301）的内部，其能够控制清洁组件（6）与进气部（3）之间气流的通断，当导气组件（7）处于连通状态时，清洁组件（6）能够对炉体（2）内部进行清理，所述导气组件（7）包括：活塞块（701），其数量设置有两个，两个所述活塞块（701）对称密封滑动设置于所述保护气体进气腔（306）的内部，且两个所述活塞块（701）均为中空结构；衔接板（702），其数量设置有两个，两个所述衔接板（702）分别固定设置于两个所述活塞块（701）相互靠近的一侧，且两个所述衔接板（702）与保护气体进气腔（306）的底部之间密封滑动设置；从动齿轮（703），其数量设置有两个，且两个所述从动齿轮（703）分别固定设置于对应侧隔板（601）靠近进气法兰（301）的一侧，所述从动齿轮（703）位于对应侧活塞块（701）的中部；齿段（704），其固定设置于对应侧活塞块（701）的内底壁，且所述齿段（704）与对应侧的从动齿轮（703）相啮合；第二弹性件（705），其数量设置有两个，两个所述第二弹性件（705）分别固定设置于对应侧活塞块（701）与保护气体进气腔（306）的侧壁之间，第二弹性件（705）能够对两个活塞块（701）提供相互靠近的推力；通孔（706），其数量设置有多个，多个所述通孔（706）均匀贯穿开设于衔接板（702）上，通孔（706）与气道（603）相对齐时，保护气体能够从保护气体进气腔（306）流通至清理口（602）处；切换组件（8），其设置于所述进气法兰（301）的内部，当其处于关闭状态时，导气组件（7）处于连通状态，对炉体（2）的内部进行清洁，当其处于连通状态时，导气组件（7）处于关闭状态，炉体（2）内进行外延生长过程，所述切换组件（8）包括：反应气体挡板（801），其滑动设置于所述反应气体通入口（304）的内部，当反应气体挡板（801）远离炉体（2）的一侧与反应气体通入口（304）的内壁贴合时，能够对反应气体进气腔（303）进行封堵；第三弹性件（802），其固定设置于所述反应气体挡板（801）与进气法兰（301）之间，第三弹性件（802）能够对反应气体挡板（801）向远离炉体（2）的一侧运动提供拉力；第二收纳槽（803），其开设于所述进气法兰（301）的内部；保护气体挡板（804），其滑动设置于所述第二收纳槽（803）的内部，当其从第二收纳槽（803）滑出时，能够对导气槽（308）进行封堵；传动杆（805），其固定设置于所述反应气体挡板（801）与保护气体挡板（804）之间，反应气体挡板（801）能够通过传动杆（805）带动保护气体挡板（804）进行同步运动。

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