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龙图腾网恭喜中国科学院合肥物质科学研究院申请的专利一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116031326B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211308662.6，技术领域涉及：H10F71/00；该发明授权一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法是由刘迪龙;陈志明;曹安;李越设计研发完成，并于2022-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于微纳光学材料制备技术领域，具体涉及一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法。所述方法首先在平片基底表面均匀地涂一层紫外固化光学胶，利用具有均匀凹槽的压印模板压印出微纳准连续膜结构，然后沉积一层贵金属膜最后通过退火煅烧获得了非密排贵金属纳米颗粒有序点阵。贵金属纳米颗粒形貌为球形，颗粒尺度均匀，颗粒尺寸和周期可调且有序性高，能够在室温、环境气氛条件下长时间保存。该制备技术快速简便、经济高效，特别适合非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的大面积4英寸、低成本制备，适合工业化的大规模生产应用。

本发明授权一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种非密排贵金属纳米颗粒有序点阵的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、将平片基底经过处理，得到清洁和亲水的表面；S2、在经上述处理的平片基底表面均匀地涂一层固化光学胶，厚度为2-100μm；S3、取压印模板，该压印模板的表面设置有非贯穿、有序点阵排布的凹槽，将设置有凹槽的一面覆盖在固化光学胶上压印，然后将固化光学胶经固化处理形成准连续膜结构，去掉压印模板；S4、在形成准连续膜结构的固化光学胶的表面沉积一层厚为2-50nm的贵金属膜；S5、将沉积贵金属膜的平片基底放入马弗炉中进行退火煅烧处理，煅烧温度为500-1500℃，时间为0.5-10h，结束后自然降温，即制得非密排贵金属纳米颗粒有序点阵；步骤S3中所述压印模板的制备方法如下：S11、将聚合物胶体微球添加到水中，通过气液界面自组装方法，在水面上进行聚合物微球胶体组装，获得有序的聚合物胶体微球单层膜；S12、基于无损转移方法，将聚合物胶体微球单层膜转移至石英衬底上，在聚合物胶体微球单层膜上浇筑一层聚二甲基硅氧烷即PDMS，置于真空干燥箱中待相邻聚合物胶体微球之间的空隙被PDMS填充到，然后置于40～100℃的烘箱中固化，再剥离下PDMS，所得即为设置有非贯穿有序点阵凹槽的压印模板。

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