恭喜拓荆科技股份有限公司谭华强获国家专利权
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龙图腾网恭喜拓荆科技股份有限公司申请的专利一种UV微波屏蔽结构和反应腔设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114256111B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111669165.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种UV微波屏蔽结构和反应腔设备是由谭华强;李蓬勃设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种UV微波屏蔽结构和反应腔设备在说明书摘要公布了：本申请实施例提供一种UV微波屏蔽结构和反应腔设备，用于屏蔽UV光源的微波，所述UV微波屏蔽结构包括透光基座，所述透光基座内部设置有金属网。透光基座内部设置金属网，透光基座在不影响紫外线对待处理产品的照射的前提下，作为金属网的支撑结构件，且金属网位于透光基座内部，可以得到保护，则金属网处于相对稳定的状态，不易偏移、变形等，从而更好地发挥其屏蔽微波的功能，使用寿命也更长。此外，也正因为金属网的结构稳定，金属网的网格尺寸可以设置的更大，金属网的金属线的直径也可以设置的更小，也就说可以设置的更细，从而节省材料。
本发明授权一种UV微波屏蔽结构和反应腔设备在权利要求书中公布了：1.反应腔设备，包括第一腔体结构，所述第一腔体结构形成第一腔室，所述第一腔室内设有UV光源，所述反应腔设备还包括UV微波屏蔽结构，所述UV微波屏蔽结构用于屏蔽UV光源的微波，所述UV微波屏蔽结构设置于所述第一腔室内，其特征在于，所述UV微波屏蔽结构包括透光基座，所述透光基座内部设置有金属网；所述透光基座设有多个通孔；所述透光基座与所述金属网的每个网格区域对应的位置均设有一个或一个以上的所述通孔；所述反应腔设备包括容置所述UV光源的箱体，所述箱体的底部开口，所述透光基座封住所述开口，以将微波封锁在所述UV光源的工作区域内；所述反应腔设备包括流经所述UV光源的气体循环回路；所述气体循环回路包括所述通孔。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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