恭喜武汉华星光电技术有限公司宋德伟获国家专利权
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龙图腾网恭喜武汉华星光电技术有限公司申请的专利一种显示面板及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114122023B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111399636.4，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权一种显示面板及其制造方法是由宋德伟;艾飞设计研发完成，并于2021-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种显示面板及其制造方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种显示面板及其制造方法，显示面板包括：衬底基板和设置于衬底基板上的薄膜晶体管层，薄膜晶体管层包括层间介质层和设置于层间介质层上的金属层，金属层包括多个间隔设置的金属电极；其中，层间介质层包括基体介质层和位于基体介质层上的非绝缘介质层，基体介质层与金属电极邻接设置，非绝缘介质层位于金属电极之间的间隙区域。本申请通过在层间介质层对应金属电极之间的间隙区域形成非绝缘介质层，从而能够降低金属层在图案化过程中电浆在层间介质层上的反射率，优化金属电极的侧面形态，大大降低显示面板出现黑阶条纹、亮暗线等问题的几率，达到提升显示面板良率的目的。
本发明授权一种显示面板及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：衬底基板和设置于所述衬底基板上的薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层包括层间介质层和设置于所述层间介质层上的金属层，所述金属层包括多个间隔设置的金属电极；其中，所述层间介质层包括基体介质层和位于所述基体介质层上的非绝缘介质层，所述基体介质层与所述金属电极邻接设置，所述非绝缘介质层位于所述金属电极之间的间隙区域中靠近所述金属电极边缘的区域。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉华星光电技术有限公司，其通讯地址为：430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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