芯越微电子材料(嘉兴)有限公司张松源获国家专利权
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龙图腾网获悉芯越微电子材料(嘉兴)有限公司申请的专利一种化学机械抛光液及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118667447B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411155892.2，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种化学机械抛光液及其制备方法和应用是由张松源;王锦龙;刘江华;简利民;傅育棋设计研发完成，并于2024-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光液及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种化学机械抛光液及其制备方法和应用，不同于常见的碱性钽酸锂抛光液，本发明提供的化学机械抛光液的pH为1~6，本发明通过在酸性pH环境中添加单一的有机酸或氟离子盐作为抛光促进剂，能够显著提升钽酸锂晶片的抛光速率；通过在抛光液中同时加入有机酸和氟离子盐，二者在酸性环境中具有显著的协同作用，能够进一步提高钽酸锂晶片的去除速率（速率提升达到168.43%，钽酸锂去除速率高达4923Åmin），去除速率的提高效果要明显高于单独添加有机酸或者氟离子盐。
本发明授权一种化学机械抛光液及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光液在含钽酸锂或铌酸锂的晶片抛光中的应用，其特征在于，所述化学机械抛光液包括：研磨颗粒、抛光促进剂、pH调节剂和水；所述抛光促进剂为氟离子盐，或为有机酸和氟离子盐，所述有机酸选自有机羧酸、磺酸中的一种或两种；所述化学机械抛光液的pH为1~6；所述研磨颗粒为二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛或氧化铁中的一种或多种；所述研磨颗粒的粒径大小为30-200nm；所述氟离子盐为MFn，其中，所述M为Li+、Na+、K+、Ca2+、Mg2+或NH4+中的任意一种，n为1或2；以质量百分比计，所述研磨颗粒在化学机械抛光液中的质量百分含量为5~50wt%；所述有机酸在化学机械抛光液中的质量百分含量为0.01~10wt%；和或，所述氟离子盐在化学机械抛光液中的质量百分含量为0.01~10wt%。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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