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龙图腾网恭喜智腾科技股份有限公司申请的专利基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法、计算机系统及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114004729B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111270847.8，技术领域涉及：G06T1/20；该发明授权基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法、计算机系统及介质是由陈国晋设计研发完成，并于2021-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法、计算机系统及介质在说明书摘要公布了：基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法、计算机系统及介质，为了解决掩膜优化的问题，对所获得的掩膜图像以及卷积核分别进行FFT运算，相应得到FFT结果，再通过FFT进行光刻模型演算，获得光刻结果，通过GPU优化函数减少光刻目标和光刻结果的误差，通过GPU梯度函数优化光刻结果，效果是实现光刻加速模型算法效率高。

本发明授权基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法、计算机系统及介质在权利要求书中公布了：1.一种基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法，其特征在于，包括读取原始光刻掩膜的目标图像，通过像素级并行的移动处理来获得掩膜边界，通过GPU对所有的边界进行并行计算获得水平集掩膜，对所获得的掩膜图像以及卷积核分别进行FFT运算，相应得到FFT结果，再通过FFT进行光刻模型演算，获得光刻结果，通过GPU优化函数减少光刻目标和光刻结果的误差,通过GPU梯度函数优化光刻结果；所述的基于GPU加速水平集进行逆光刻掩膜优化的方法，其特征在于，还包括水平集掩膜更新的步骤；水平集光刻掩膜表示： C表示光刻掩膜的边界，φx,y表示对应的水平集合函数,x,y表示图像中的像素坐标，inside代表在边界中，outside代表在边界外；GPU优化函数： x,y表示图像中的像素坐标，Z代表通过GPU算法生成的掩膜图像，Zt代表光刻掩膜目标图像，γ代表相关指数，N代表图片的宽度和高度；GPU梯度函数： M代表掩膜图像，Z代表GPU生成的光刻结果，Zt代表目标图像，γ为参数，θz为sigmoid函数的斜率，Hflip为卷积核的180度翻转，H为卷积核，代表卷积操作，H代表卷积核，⊙代表点乘操作；水平集更新： 其中φi+1x,y代表更新后的水平集函数，i代表第i次更新，Δt代表更新步长，t代表时间；通过计算统一设备架构编程模型CUDA编写的快速傅里叶变换FFT程序直接调用GPU的计算资源。

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