恭喜武汉鼎泽新材料技术有限公司;鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司;鼎龙(仙桃)新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司陈俊获国家专利权
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龙图腾网恭喜武汉鼎泽新材料技术有限公司;鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司;鼎龙(仙桃)新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司申请的专利一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119954164B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510454516.1，技术领域涉及：C01B33/145；该发明授权一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用是由陈俊;李小龙;李清涛;杨淞元;甄臻;邹毓;董昊;刘文军设计研发完成，并于2025-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用，以低金属离子杂质（≤1ppm）的硅氧烷为原料，联合氨丙基硅烷电荷调整剂与碱性氨基酸、碱性物质构建复合催化体系，通过氨基‑羧基缩合及硅烷水解，形成表面具有链状支链突起的粗糙球形结构，解决了现有硅溶胶磨料表面光滑、机械抛光效率低及杂质控制不足的问题。本发明所得胶体二氧化硅表面粗糙，粒径分布单一性好，纯度高，能有效缩短反应周期，提高机械抛光效率。
本发明授权一种表面粗糙的胶体二氧化硅及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种表面粗糙的胶体二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： （a）以硅氧烷为原料，加入电荷调整剂氨丙基硅烷和醇溶剂混合搅拌，形成混合溶液A；b将醇溶剂，碱性氨基酸，超纯水和碱性物质混合配制混合溶液B，所述碱性物质包括氨水、四甲基氢氧化铵、三乙氧基丙氨中的一种或几种组合，所述碱性氨基酸选自赖氨酸、精氨酸、组氨酸、鸟氨酸中的一种或几种组合，所述碱性氨基酸在所述溶液B的浓度为0.1-3wt%，所述碱性物质在溶液B的浓度为0.1-10wt%；（c）将所述溶液A与所述溶液B混合进行反应，制备硅溶胶；（d）将所述硅溶胶进行减压蒸馏，并加水置换除去里面的醇，得到一种表面粗糙的胶体二氧化硅。
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