恭喜东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置及等离子体处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113192817B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110067300.1,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法是由舆水地盐设计研发完成,并于2021-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置及等离子体处理方法在说明书摘要公布了:在公开的等离子体处理装置中,在第1期间供给用于生成等离子体的高频电力,在第2期间设定为高频电力的功率电平减少的功率电平。在第2期间,偏置电力施加到基板支承器的下部电极。偏置电力在由第2频率限定的各周期内使基板的电位变动。在第2期间,直流电压施加到上部电极。直流电压设定为在由第2频率限定的各周期内,第1副期间中的其极性为负,且第1副期间中的其绝对值大于第2副期间中的其绝对值。
本发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理装置,其具备: 腔室; 基板支承器,具有下部电极,且构成为在所述腔室内支承基板; 上部电极,设置于所述下部电极的上方; 高频电源,构成为为了从所述腔室内的气体生成等离子体而供给具有第1频率的高频电力; 偏置电源,其为与所述下部电极电连接的偏置电源,且构成为为了将离子引入到载置于所述基板支承器上的基板,供给在由第2频率限定的各周期内使载置于所述基板支承器上的基板的电位变动的偏置电力; 直流电源,与所述上部电极电连接;及 控制部,构成为控制所述高频电源、所述偏置电源及所述直流电源, 所述控制部进行如下控制: 控制所述高频电源,以使在第1期间供给所述高频电力,将该第1期间之后的第2期间中的所述高频电力的功率电平设定为从所述第1期间中的所述高频电力的功率电平减少的功率电平; 控制所述偏置电源,以使在所述第2期间内将所述偏置电力施加到所述下部电极;及 控制所述直流电源,以使将直流电压在所述第2期间施加到所述上部电极,所述直流电压设定为在由所述第2频率限定的各周期内,第1副期间中的其极性为负,且该第1副期间中的其绝对值大于与该第1副期间不同的第2副期间中的其绝对值。
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