赛德半导体有限公司尹爀俊获国家专利权
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龙图腾网获悉赛德半导体有限公司申请的专利一种湿法蚀刻设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117945663B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410159718.9,技术领域涉及:C03C15/00;该发明授权一种湿法蚀刻设备是由尹爀俊;欧阳春炜;李述蕾;王强设计研发完成,并于2024-02-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种湿法蚀刻设备在说明书摘要公布了:本发明属于湿法蚀刻领域,尤其涉及一种湿法蚀刻设备,它包括平台、支架B、电机A、滑座A、电机B、滑座C、电机C、喷酸机构,其中安装于平台的支架B内竖直运动有被电机A驱动的方框形滑座A,滑座A内水平运动有被电机B和电机C驱动的滑座C。本发明通过喷酸板上的传感器感知玻璃上光刻胶的光刻槽使得位于相应停留区域内的喷酸板上与光刻槽相对的喷孔A、喷孔B和喷孔C打开而对光刻槽范围内的玻璃表面进行HF酸的像素级精准喷涂,避免玻璃蚀刻过程中HF酸浪费。
本发明授权一种湿法蚀刻设备在权利要求书中公布了:1.一种湿法蚀刻设备,其特征在于:它包括平台、支架B、电机A、滑座A、电机B、滑座C、电机C、喷酸机构,其中安装于平台的支架B内设置有被电机A驱动且能够竖直运动的方框形滑座A,滑座A内设置有被电机B和电机C驱动且能够水平运动的滑座C;滑座C下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构; 所述喷酸机构包括喷酸板、导套、滑塞A、滑塞B、滑塞C、压电板,其中安装于竖杆的带空腔喷酸板的下表面上阵列密布有喷孔A,任意相邻两个喷孔A之间均具有小口径尺寸喷孔B,任意对角分布的两个喷孔A之间均具有小口径喷孔C;每个喷孔A处的导套内均设置有能够竖直密封滑动的滑塞A,滑塞A在压电板驱动下控制导套上的酸孔开或关,每个喷孔B处的导套内均设置有能够竖直密封滑动的滑塞B,滑塞B在压电板驱动下控制导套上的酸孔开或关,每个喷孔C处的导套内均设置有竖直密封滑动的滑塞C,滑塞C在压电板驱动下控制导套上的酸孔开或关;任意相邻两个滑塞A与两者之间的滑塞B之间均具有在只有一个滑塞A打开相应导套上酸孔时不使滑塞B打开相应导套上酸孔并且在两个滑塞A同时打开相应导套上酸孔时使滑塞B打开相应导套上酸孔的传动结构;任意对角分布的两个滑塞A与两者之间的滑塞C之间均具有在只有一个滑塞A打开相应导套上酸孔时不使滑塞C打开相应导套上酸孔并且在两个滑塞A同时打开相应导套上酸孔时使滑塞C打开相应导套上酸孔的传动结构; 所述滑塞B上端具有滑槽A,滑槽A内安装有齿轮A,滑槽A内设置有能够竖直滑动的两个齿条A,两个齿条A与齿轮A啮合且两个齿条A运动方向相反,两个齿条A通过连接杆与相邻两个滑塞A一一对应连接; 所述滑塞C内具有两个上下分布的滑槽B,每个滑槽B内均设置有能够竖直滑动的滑块,每个滑块上均安装有齿轮B;每个齿轮B均与滑塞C周围四个滑塞A中两个对角分布的滑塞A对应;每个滑槽B内均设置有能够竖直滑动的齿条B,两个齿条B与相应齿轮B啮合且两个齿条B运动方向相反,两个齿条B通过连接杆与相应对角分布的两个滑塞A一一对应连接; 所述喷酸板上具有感知玻璃上光刻胶的光刻槽的传感器。
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