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申请/专利权人：住友化学株式会社
申请日：2004-12-09
公开（公告）日：2005-06-15
公开（公告）号：CN1627107A
专利技术分类：.偏振元件（具有有源元件的光调制器件入G02F1/00）[2006.01]
专利摘要：提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
专利权项：1.一种偏光膜的制造方法，其在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和或工序中进行单轴拉伸，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
百度查询： 住友化学株式会社 偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法
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