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申请/专利权人：霍尼韦尔有限公司
申请日：2022-02-25
公开（公告）日：2022-08-30
公开（公告）号：CN114965517A
主分类号：G01N23/04
分类号：G01N23/04;G01N21/3563
优先权：["20210226 US 63/154,249","20220217 US 17/651,501"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2022.09.16#实质审查的生效;2022.08.30#公开
摘要：本发明题为用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器。本发明公开了一种方法，该方法包括接收从x射线发射器传输穿过涂覆的隔离膜的x射线信号。该方法还包括从该涂覆的隔离膜获得红外IR信号。这些IR信号包括两个或更多个光谱分量，这些光谱分量包括峰，这些峰包括来自该隔离膜的第一峰。该方法还包括由处理器确定是否存在第二峰，以及确定该涂覆的隔离膜内存在的涂层中是否存在至少一种污染物添加剂。该方法还包括由该处理器计算该至少一种污染物添加剂的浓度面积重量以及该涂层的重量、密度或厚度。
主权项：1.一种方法，包括：接收x射线信号，所述x射线信号从x射线发射器110a,120a传输穿过涂覆的隔离膜180；从所述涂覆的隔离膜180获得红外IR信号，其中所述IR信号包括两个或更多个光谱分量，所述两个或更多个光谱分量包括峰，所述峰包括来自所述隔离膜180的第一峰；由处理器151确定所述IR峰当中是否存在第二峰，以及由所述处理器151确定所述涂覆的隔离膜180内存在的涂层180b中是否存在至少一种污染物或添加剂；以及由所述处理器151计算所述至少一种污染物或添加剂的浓度或面积重量以及所述涂层180b的重量、密度或厚度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 霍尼韦尔有限公司 用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器
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