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申请/专利权人：ASM IP私人控股有限公司
摘要：根据本文的一些实施例，描述了用于薄膜的可流动沉积的方法和设备。一些实施例涉及用于间隙填充的循环处理器，其中沉积之后是热退火和紫外线处理，并且重复进行。在一些实施例中，沉积、热退火和紫外线处理在单独的站中进行。在一些实施例中，第二站被加热到比第一站更高的温度。在一些实施例中，单独的模块用于固化。
主权项：1.一种用于可流动间隙填充沉积的方法，该方法包括：a将衬底放置在第一站中；b在第一温度下通过气相沉积处理在第一站中的衬底上沉积可流动材料；c将衬底放置在第二站中；d通过在第二站中将衬底表面加热到第二温度并将衬底暴露于紫外光，在衬底上进行热和紫外线处理；以及循环重复a-d，直到在衬底上沉积期望厚度的膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASM IP私人控股有限公司 通过等离子体增强原子层沉积沉积可流动SICN膜
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