申请/专利权人:安徽外延科技有限公司
申请日:2023-08-16
公开(公告)日:2024-04-19
公开(公告)号:CN220812588U
主分类号:C23C14/22
分类号:C23C14/22
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.19#授权
摘要:本实用新型涉及一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台,包括真空法兰;真空法兰两侧分别为真空腔体外和真空腔体内,真空腔体外设置第一真空旋转导入器,真空腔体内设置靶台的公转盘,所述的第一真空旋转导入器驱动公转盘公转,所述的公转盘上环置有多个靶托,真空腔体外位于第一真空旋转导入器避让位置设置第二真空旋转导入器,所述的第二真空旋转导入器驱动靶托自转;真空腔体内的第一真空旋转导入器上设置减速机,减速机上连接中心杆,所述的中心杆带动公转盘公转。
主权项:1.一种真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台,包括真空法兰5;真空法兰5两侧分别为真空腔体外和真空腔体内,真空腔体外设置第一真空旋转导入器1,真空腔体内设置靶台的公转盘10,所述的第一真空旋转导入器1驱动公转盘10公转,其特征在于:所述的公转盘10上环置有多个靶托7,真空腔体外位于第一真空旋转导入器1避让位置设置第二真空旋转导入器2,所述的第二真空旋转导入器2驱动靶托7自转;真空腔体内的第一真空旋转导入器1上设置减速机6,减速机6上连接中心杆,所述的中心杆带动公转盘10公转。
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权利要求:
百度查询: 安徽外延科技有限公司 真空镀膜设备中可同时带有自转和公转的精密控制靶台
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