申请/专利权人:中国矿业大学
申请日:2024-01-10
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN117926179A
主分类号:C23C14/06
分类号:C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开
摘要:本发明公开了一种超低摩擦选择性氢化的织构化超薄非晶碳薄膜及制备方法,属于材料表面改性技术领域。该超薄(20~200nm)非晶碳薄膜包括非晶碳膜上配副和选择性氢化的织构非晶碳下配副,其中下配副从上到下包含表面织构层和非晶碳支撑层,表面织构层为等间距矩形织构且其凸起位置为氢化处理区域,非晶碳支撑层为非晶碳膜。该超薄非晶碳薄膜具有原子级光滑表面,并且具有高硬度、高承载、低磨损、超低摩擦和极好的摩擦稳定性,能为磁存储设备和微米或纳米电子机械系统优异的摩擦防护。
主权项:1.一种超低摩擦选择性氢化的织构化超薄非晶碳薄膜,其特征在于,包括非晶碳膜上配副和选择性氢化的织构非晶碳下配副,其中下配副从上到下包含表面织构层和非晶碳支撑层,表面织构层为等间距矩形织构且其凸起位置为氢化处理区域,非晶碳支撑层为非晶碳膜。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中国矿业大学 一种超低摩擦选择性氢化的织构化超薄非晶碳薄膜及制备方法
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