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【发明公布】一种PbS量子点薄膜及其制备方法_觉芯电子(无锡)有限公司_202410062599.5 

申请/专利权人:觉芯电子(无锡)有限公司

申请日:2024-01-16

公开(公告)日:2024-05-03

公开(公告)号:CN117965159A

主分类号:C09K11/02

分类号:C09K11/02;C09K11/66;B82Y20/00;B82Y30/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.21#实质审查的生效;2024.05.03#公开

摘要:本申请提供一种PbS量子点薄膜及其制备方法,该PbS量子点薄膜的制备方法包括以下步骤:a)涂布PbS量子点溶液形成涂液层;b)在所述涂液层表面滴加配体溶液进行配体置换;所述配体溶液的成分包括四丁基碘化铵、碱金属盐和溶剂;c)滴加洗剂进行清洗;d)重复步骤a)‑c)若干次,得到PbS量子点薄膜。本申请提供PbS量子点薄膜的制备方法利用碱金属掺杂优化固态配体置换的活性层成膜,获得的PbS量子点薄膜具有较高的稳定性和耦合强度。

主权项:1.一种PbS量子点薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:a)涂布PbS量子点溶液形成涂液层;b)在所述涂液层表面滴加配体溶液进行配体置换;所述配体溶液的成分包括四丁基碘化铵、碱金属盐和溶剂;c)滴加洗剂进行清洗;d)重复步骤a)-c)若干次,得到PbS量子点薄膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 觉芯电子(无锡)有限公司 一种PbS量子点薄膜及其制备方法

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