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申请/专利权人：上海卡贝尼精密陶瓷有限公司
申请日：2024-02-04
公开（公告）日：2024-05-14
公开（公告）号：CN118028785A
主分类号：C23C16/505
分类号：C23C16/505;B25B11/00
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.31#实质审查的生效;2024.05.14#公开
摘要：本发明提供了一种涉及泛半导体行业HDPCVD设备的HDPCVD化学气相淀积设备BellJar冷却、射频集成组件模具及加工方法，包括高精密模具和定位治具，定位治具连接于高精密模具上，高精密模具上设有凹槽，定位治具上设有卡齿，凹槽和卡齿配合连接。本发明提供几乎独立的离子通量和能量控制，使用时得到均匀电感耦合等离子体源来实现化学气相沉积设备，能够在较低的沉积温度下更高的等离子体密度和质量，提高了沟槽或孔填充能力。
主权项：1.一种HDPCVD化学气相淀积设备BellJar冷却、射频集成组件模具，其特征在于，包括高精密模具1和定位治具2，所述定位治具2连接于所述高精密模具1上，所述高精密模具1上设有凹槽12，所述定位治具2上设有卡齿24，所述凹槽12和所述卡齿24配合连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海卡贝尼精密陶瓷有限公司 HDPCVD化学气相淀积设备Bell Jar冷却、射频集成组件模具及加工方法
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