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【发明授权】基于三蝶烯的多硫鎓盐单分子树脂光刻胶及其制备方法_中国科学院理化技术研究所_202410074450.9 

申请/专利权人:中国科学院理化技术研究所

申请日:2024-01-18

公开(公告)日:2024-05-24

公开(公告)号:CN117865866B

主分类号:C07C381/12

分类号:C07C381/12;G03F7/004

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.24#授权;2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本发明提供一类式I所示基于三蝶烯的多硫鎓盐单分子树脂光刻胶及其制备方法和应用。本发明式I所示化合物以三蝶烯和苯环为基本单元,最大限度地提高了其作为主体材料的抗刻蚀性能,同时提高了其热稳定性、溶解性和成膜性,综合性能大大提高,所述主体材料的热分解温度大于250℃,其热稳定性相对于现有的三蝶烯结构显著提升,扩大了材料的应用范围,适合光刻加工工艺的要求。。

主权项:1.式I所示的化合物: ;其中,X–为卤素离子、羧酸根、硫酸根、烷基磺酸根、三氟甲磺酸根、全氟丙基磺酸根、全氟丁基磺酸根、对甲苯磺酸根、磺酰胺的阴离子、四氟硼酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根或双三氟甲烷磺酰亚氨离子;n等于分子中硫鎓盐基团-S+RS1RS2中S+的个数,S+和X–使化合物整体呈电中性,n值为6;即式I化合物中具有6个基团-S+RS1RS2;式I所示化合物为对称结构,即外侧6个苯环上的结构完全相同;R1、R2、R3、R4、R5中有1个选自硫鎓盐基团-S+RS1RS2,其他基团为H;所述硫鎓盐基团-S+RS1RS2位于其所取代的苯环的间位或对位;R1、R2、R3、R4、R5相同或不同,各自独立地选自H、-S+C1-3烷基2、-S+苯基2、-S+C1-3烷基苯基、-S+-C1-3烷基-苯基C1-3烷基;RS1、RS2各自独立地选自C1-3烷基、苯基或-C1-3烷基-苯基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院理化技术研究所 基于三蝶烯的多硫鎓盐单分子树脂光刻胶及其制备方法

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