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【发明授权】一种激光窃听阻断及电磁信号屏蔽防护膜_北京市大唐盛兴科技发展有限公司_202311170172.9 

申请/专利权人:北京市大唐盛兴科技发展有限公司

申请日:2023-09-11

公开(公告)日:2024-06-04

公开(公告)号:CN117062425B

主分类号:H05K9/00

分类号:H05K9/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.04#授权;2023.12.01#实质审查的生效;2023.11.14#公开

摘要:本申请公开了一种激光窃听阻断及电磁信号屏蔽防护膜。防护膜采用多层屏蔽体,其中每层屏蔽体外侧采用高电导率材料来增强反射作用,屏蔽体内侧采用高磁导率材料增加涡流效应。本申请能够实现屏蔽阻断材料同时具备电磁屏蔽功能和激光窃听防护功能,大大提升透光度。

主权项:1.一种激光窃听阻断及电磁信号屏蔽防护膜,其特征在于,所述防护膜包括多层屏蔽体,其中每层屏蔽体外侧采用高电导率材料来增强反射作用,屏蔽体内侧采用高磁导率材料增加涡流效应;所述高电导率材料至少包括金属及碳纤维材料;所述高磁导率材料至少包括铁磁材料;所述防护膜还包括保护层,保护层位于屏蔽体的外侧,用于保护屏蔽体免受损坏和环境影响;所述保护层采用耐磨、耐腐蚀、耐高温材料;所述防护膜还包括背胶层,用于将多层屏蔽体粘合和固定在需要保护的物体或表面上;所述背胶层包括胶黏剂和背衬;其中,胶黏剂用于在不同表面间进行粘结;背衬用于支撑胶黏剂;所述防护膜用于阻隔780-1800nm全波段窃听入侵激光;所述防护膜可以在-55—85℃环境下使用。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京市大唐盛兴科技发展有限公司 一种激光窃听阻断及电磁信号屏蔽防护膜

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