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申请/专利权人：聚酰亚胺先端材料有限公司
申请日：2022-10-24
公开（公告）日：2024-06-11
公开（公告）号：CN118176243A
主分类号：C08J5/18
分类号：C08J5/18;C08G73/10;C08L79/08;C08K3/04
优先权：["20211025 KR 10-2021-0142449"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.25#实质审查的生效;2024.06.11#公开
摘要：本发明涉及聚酰亚胺膜及其制造方法，上述聚酰亚胺膜的透过率为1.0％以下，光泽度为50％以下，介电损耗因数为0.01以下，酸二酐成分、二胺成分以及炭黑的种类和组成比得到调节的聚酰亚胺膜具有同时具备优异的光学特性、介电特性和耐化学特性的效果。
主权项：1.一种聚酰亚胺膜，其透过率为1.0％以下，光泽度为50％以下，介电损耗因数为0.01以下。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 聚酰亚胺先端材料有限公司 低介电黑色聚酰亚胺膜及其制造方法
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