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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本公开内容的实施方式总体提供使用数字微镜装置DMD的改进的光刻系统和方法。DMD包括与基板相对设置的微镜的列和行。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列和行的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃光，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的大的特征。类似地，微镜的列和行的某些子集可默认为“关闭”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的小的特征。
主权项：1.一种用于使用数字微镜装置图案化基板的方法，其中所述数字微镜装置包括排列成复数个列和复数个行的微镜的阵列，所述方法包括以下步骤：使用所述数字微镜装置扫描所述基板；评估所述图案化基板的均匀性；识别所述图案化基板的不均匀区域；指定微镜的所述复数个列的子集以用于衰减；关闭微镜的所述复数个列的所指定的所述子集达某个时间周期，所述时间周期包括所述数字微镜装置跨所述图案化基板的所述不均匀区域扫描所需的时间；和使用所述数字微镜装置扫描所述基板。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 预备空间光调制器区段以解决场不均匀性
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