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申请/专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司
摘要：本发明公开了一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物，组合物包括有机溶剂、氧化剂、含氟物质、羧酸盐、有机羧酸、腐蚀抑制剂、氨、钝化剂和余量的水。本发明的蚀刻液用于先进铜制程中金属硬掩模材料WC的去除和蚀刻残留物的清洁，相对于AlOx、Low‑Κ材料和含Cu和Co的材料具有优异的兼容保护性，此外本发明的组合物还有较长使用寿命。
主权项：1.一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物，其特征在于，包括按质量分数计的以下组分：5%-20%有机溶剂、1%-5%的氧化剂、0.1%-5%的含氟物质、0.1%-10%的羧酸盐、0.1%-5.0%的有机羧酸、0.1%-5%的腐蚀抑制剂、0.3%-10.3%的pH调节剂、0.1%-1%的钝化剂和余量的水，各组分质量分数之和为100%。
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百度查询： 湖北兴福电子材料股份有限公司 一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物
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