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申请/专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
摘要：本申请提供了反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法，反应设备包括：反应室，反应室内形成反应腔；主抽管路，连通反应腔，主抽管路设置有主阀门；主进气支路，连通反应腔；清洁进气支路，连通反应腔和或连通主抽管路。本申请的反应设备的工艺气体和被激发的清洁气体可通过不同的管路进入反应腔，无需均通过主进气支路进入反应腔。因此，工艺气体可通过主进气支路进入反应腔，反应腔内对应主进气支路的区域可用于设置喷淋组件，以均匀工艺气体；被激发的清洁气体可通过清洁进气支路导向目标位置，无需经过喷淋组件，避免自由基经过喷淋组件产生碰撞而失活，从而可提高反应设备的整体清洁效率。
主权项：1.一种反应设备，其特征在于，包括：反应室，所述反应室内形成反应腔；主抽管路，连通所述反应腔，所述主抽管路设置有主阀门；主进气支路，连通所述反应腔；清洁进气支路，连通所述反应腔和或连通所述主抽管路。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏微导纳米科技股份有限公司 反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法
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