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申请/专利权人：南京航空航天大学
申请日：2024-02-28
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118180637A
主分类号：B23K26/362
分类号：B23K26/362;B23K26/08;B23K26/70
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明的目的是提供一种用于抑制旋印电解加工杂散腐蚀的复杂图案屏蔽涂层激光刻型装置及其刻型方法，涉及电解加工技术领域。方法包括：工件旋转系统可旋转地设置于底座上用于搭载待刻型工件；搭载位移台可滑动设置于底座上；搭载位移台用于搭载激光器和瞄准系统；瞄准系统对准刻型起始位置；控制系统控制搭载位移台按照预设路径移动，以控制激光器的高度和角度，以及激光器与待刻型工件的距离，控制工件旋转系统旋转待刻型工件，进而完成待刻型工件的刻型加工。本发明通过旋印电解加工中涂层对凸台以及非加工区域的保护作用，抑制旋印电解加工回转体零件时的杂散腐蚀。
主权项：1.一种用于抑制旋印电解加工杂散腐蚀的复杂图案屏蔽涂层激光刻型装置，其特征在于，包括：底座、工件旋转系统、激光器、搭载位移台、瞄准系统和控制系统；所述工件旋转系统、所述激光器、所述搭载位移台和所述瞄准系统均与所述控制系统连接；所述工件旋转系统可旋转地设置于所述底座上；所述工件旋转系统用于搭载待刻型工件；所述待刻型工件为圆柱状中空结构，或圆锥状中空结构或组合中空结构；所述组合中空结构包括自上而下依次堆叠设置的多个结构单元；所述结构单元为圆柱状中空结构或圆锥状中空结构；所述搭载位移台设置于所述底座上；所述搭载位移台用于搭载所述激光器和所述瞄准系统；所述瞄准系统用于对准刻型起始位置；所述控制系统用于控制所述搭载位移台按照预设路径移动，以控制激光器的高度和角度，以及激光器与待刻型工件的距离；所述控制系统用于控制所述工件旋转系统旋转所述待刻型工件；所述激光器用于完成待刻型工件的刻型加工。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京航空航天大学 一种用于抑制旋印电解加工杂散腐蚀的复杂图案屏蔽涂层激光刻型装置及其刻型方法
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