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申请/专利权人：国立研究开发法人产业技术综合研究所;理音株式会社;铠侠股份有限公司
摘要：本发明提供粒子测定装置、校正方法和测定装置，能使用校正用粒子简单地进行拍摄目标粒子等对象物的测定装置的校正。图像分析部21取得以时间间隔Δt得到的多个拍摄图像，a在校正模式下，根据所述多个拍摄图像中的校正用粒子的像素单位的光点的位移，确定校正用粒子的光点的均方位移ΔMS－cal，b在测定模式下，根据所述多个拍摄图像中的目标粒子的光点的像素单位的位移，确定目标粒子的光点的均方位移ΔMS。并且粒径分析部22c在分析模式下，根据校正用粒子的光点的均方位移ΔMS－cal以及校正用粒子的粒径dcal，从目标粒子的光点的均方位移ΔMS导出所述目标粒子的粒径d。
主权项：1.一种粒子测定装置，测定目标粒子的粒径，其特征在于包括：图像分析部，a在校正模式下，对于粘度未知的分散介质内的校正用粒子，取得以规定时间间隔得到的多个拍摄图像，根据取得的所述多个拍摄图像中的所述校正用粒子的光点的像素单位的位移，确定所述校正用粒子的光点的均方位移，b在测定模式下，对于与所述校正模式下的所述分散介质相同温度的相同物质的分散介质内的所述目标粒子，取得以规定时间间隔得到的多个拍摄图像，根据在所述测定模式下取得的所述多个拍摄图像中的所述目标粒子的光点的像素单位的位移，确定所述目标粒子的光点的均方位移；以及粒径分析部，c在分析模式下，基于所述校正用粒子的光点的均方位移以及所述校正用粒子的粒径，根据所述目标粒子的光点的均方位移导出所述目标粒子的粒径。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 国立研究开发法人产业技术综合研究所 理音株式会社 铠侠股份有限公司 粒子测定装置、校正方法
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