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【发明授权】波长选择滤光器、显示体、光学设备以及波长选择滤光器的制造方法_凸版印刷株式会社_202080042897.8 

申请/专利权人:凸版印刷株式会社

申请日:2020-06-26

公开(公告)日:2024-06-14

公开(公告)号:CN113950632B

主分类号:G02B5/26

分类号:G02B5/26;G02B5/28;G02B5/18;H01L27/146;H04N25/70

优先权:["20190627 JP 2019-120103","20190627 JP 2019-120104"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.14#授权;2022.07.08#实质审查的生效;2022.01.18#公开

摘要:光学设备具有:凹凸构造层,其在表面具有以亚波长周期排列的多个凸部构成的凹凸构造;高折射率层,其位于凹凸构造上而具有追随该凹凸构造的表面形状;以及低折射率层,其位于所述高折射率层上而具有追随该高折射率层的表面的凹凸的表面形状。高折射率层包含位于凹凸构造的底部而构成亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于凹凸构造的顶部而构成亚波长格栅的第2格栅高折射率部。高折射率层的折射率高于凹凸构造层以及低折射率层各自的折射率。

主权项:1.一种波长选择滤光器,其中,所述波长选择滤光器具有:凹凸构造层,其在表面具有凹凸构造,所述凹凸构造由以亚波长周期排列的多个凹凸要素构成,所述凹凸要素是凸部或者凹部;高折射率层,其位于所述凹凸构造上而具有追随该凹凸构造的表面形状,且包含位于所述凹凸构造的底部而构成亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于所述凹凸构造的顶部而构成亚波长格栅的第2格栅高折射率部;以及低折射率层,其位于所述高折射率层上而具有追随该高折射率层的表面的凹凸的形状的表面以及背面,所述高折射率层的折射率高于所述凹凸构造层以及所述低折射率层各自的折射率,将所述第1格栅高折射率部的厚度设为T1,所述第2格栅高折射率部的厚度设为T2,所述高折射率层的折射率设为n1、所述凹凸构造层的折射率设为n2、所述低折射率层的折射率设为n3,包含所述第1格栅高折射率部在内而与其厚度方向正交的剖面处该第1格栅高折射率部所占据的面积比率设为R1,包含所述第2格栅高折射率部在内而与其厚度方向正交的剖面处该第2格栅高折射率部所占据的面积比率设为R2,此时,n1n2、n1n3且R1+R21,T1×{n1×R1+n2×1-R1}的值为第1参数,T2×{n1×R2+n3×1-R2}的值为第2参数,所述第2参数与所述第1参数的比大于或等于0.5而小于或等于2.0。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 凸版印刷株式会社 波长选择滤光器、显示体、光学设备以及波长选择滤光器的制造方法

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