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模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法 

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申请/专利权人:南通大学

摘要:本发明公开了模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法,属于拉曼光谱技术领域。解决了现有平整PDMS表面通过拉伸形成的褶皱周期过大对增强效果有限的技术问题。该制备方法为将硅模板进行清洁后放入其中一个表面皿,将三甲基氯硅烷滴到另一个表面皿,两个表面皿一同置于真空干燥环境,得到预处理硅模板;将PDMS混合液倒在预处理硅模板的表面,进行固化后剥离,得到PDMS衬底;将PDMS衬底经预拉伸后进行氧等离子体处理,之后冷却,再缓慢释放,得到多级周期纳米结构的PDMS衬底;通过蒸镀法生长Ag纳米结构,得到SERS基底。该方法具有制备成本低、消耗小、操作简单的优点,且灵敏度高,均匀性好。

主权项:1.模板辅助拉伸起皱技术构建多级结构SERS基底的方法,其特征在于,包括如下步骤:1将硅模板进行清洁后放入其中一个表面皿,将三甲基氯硅烷滴到另一个表面皿,两个表面皿一同置于真空干燥环境,得到预处理硅模板;2将PDMS混合液倒在步骤1得到的预处理硅模板的表面,进行固化后剥离,得到表面形成硅模板纳米立方孔洞阵列的负结构的PDMS衬底;3将步骤2得到的PDMS衬底经预拉伸后进行氧等离子体处理,之后冷却,再缓慢释放,得到纳米立方柱阵列结构上叠加了周期纳米褶皱结构的多级周期纳米结构的PDMS衬底;4在步骤3得到的多级周期纳米结构的PDMS衬底上通过蒸镀法生长Ag纳米结构,得到高灵敏度的SERS基底。

全文数据:

权利要求:

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