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【发明公布】井下组件和具有井下组件的环状屏障_韦尔泰克制造中心完井有限公司_202280072385.5 

申请/专利权人:韦尔泰克制造中心完井有限公司

申请日:2022-11-09

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN118215778A

主分类号:E21B33/127

分类号:E21B33/127;E21B36/00;E21B33/13

优先权:["20211110 EP 21207648.3"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.18#公开

摘要:本发明涉及井下组件,用于在堵塞和废弃具有顶部的井之前永久地密封控制金属井管结构的井部件的控制线,井下组件包括:管状线的第一部分;管状线的第二部分;布置在管状线的第一部分和第二部分之间的井下阻断单元,并且井下阻断单元包括具有第一开口、第二开口以及在第一开口和第二开口之间的流体连通通道的第一元件,第一开口比第二开口更靠近顶部布置,第一开口具有连接到管状线的第一部分的第一连接部,并且第二开口具有连接到管状线的第二部分的第二连接部,其中第一元件具有在其中流体连通通道打开的第一状态下的第一外部形状和在其中流体连通通道被阻断的第二状态下的第二外部形状,第二形状至少部分地不同于第一外部形状。本发明还涉及井下系统,包括具有外表面的金属井管结构和连接到外表面和或井下环状屏障的井下组件。最后,本发明涉及用于在堵塞和废弃井之前永久地阻断井下组件中的流体连通部以便永久地密封控制线的方法。

主权项:1.一种井下组件60,其用于在堵塞和废弃具有顶部51的井2之前永久地密封控制金属井管结构3的井部件52的控制线,该井下组件包括:-管状线4的第一部分10;-管状线4的第二部分12;-布置在所述管状线的第一部分和第二部分之间的井下阻断单元1,该井下阻断单元包括:-第一元件5,所述第一元件包括第一开口6、第二开口7以及在所述第一开口和所述第二开口之间的流体连通通道8,14,所述第一开口比所述第二开口更靠近所述顶部布置,所述第一开口具有连接到所述管状线4的第一部分10的第一连接部9,所述第二开口具有连接到所述管状线的第二部分12的第二连接部11,其中所述第一元件在其中所述流体连通通道打开的第一状态下具有第一外部形状,并且在其中所述流体连通通道被阻断的第二状态下具有第二外部形状,所述第二形状至少部分地不同于所述第一外部形状。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 韦尔泰克制造中心完井有限公司 井下组件和具有井下组件的环状屏障

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